泰納克熔片機

泰納克熔片機 ：

熔樣效果佳

該機采用*的爐體擺動和樣品架自旋同時進行的設計，確保樣品熔體的渦流式運動，在*短的時間內達到*佳的均勻度和*佳的排氣泡效果。

適合多種材料的不同溫度下熔樣

本機采用硅碳棒式加熱，S型鉑銠熱電偶測溫，液晶觸摸式顯示屏+PLC+AI人工智能控制，全新智能化人機操作系統，具有故障自檢、易于操作、運行可靠等特點，參數默認式設計，使操作更為簡單、安全、自動化程度更高、控溫更*確，多種材料不同溫度下均可達到高質量的熔樣效果，具有優良的分析再現性，能滿足多種行業分析標準的要求。

設有多項保護功能

設計有多項保護功能，如斷偶、超溫等，當超溫或超越限位行程時同樣采用軟硬件雙重保護，從而保障設備長期穩定運行。

泰納克熔片機 ：

主要技術指標：   

■控制系統：AI智能控制

■長×寬×高：1120mm×620mm×1050mm

■升溫速度：平均30℃/min

■額定溫度：0~1250℃

■加熱元件：槍型硅碳棒（φ14×250×175×50）

■控溫精度：±1℃保溫時±2℃（S型單鉑銠熱電偶測溫）

■熔樣數量：4位（一次成型或澆注成型）

■爐體擺動角度：0~40°可調

■托架旋轉速度：0~30r/min可調（變頻器無極調速、可正反向旋轉）

■可提供9條工作曲線

■熔樣時間的選擇

  前靜置時間0~160min可選

  擺動時間0~160min可選

  后靜置時間0~160min可選

  極限運行時間165h

■儀器重量：設備總重380kg

■設備功率：8kw

■電源要求：加熱電路單相380V  控制電路單相220V

■額定電流：30A

■額定頻率：50Hz